当今是以半导体技术为的信息时代,半导体在生产的过程中将会产生大量的有毒有害气体、**和无机物等,那电子半导体的废气应该怎么处理呢? 电子半导体行业在生产时会使用显影剂、光刻胶、清洁剂、蚀刻液等溶剂,而这些溶剂是含有大量的**物成分。 工业上的**废气处理常用的工艺有:活性炭吸附处理法、酸碱中和法、等离子法、直接燃烧法、催化燃烧法、吸收法、冷凝法等。 目前,电子半导体行业的废气采用吸附、焚烧两者相结合的废气处理方法。 活性炭吸附:其原理是利用多孔性固体吸附剂处理混合气体,使废气中的气体成分吸附在固体表面以达到分离的目的,该废气处理设备能够有效的去除浓度很低的有害物质,净化,设备操作方便。 焚烧:焚烧的原理是在热氧化中,**废气流经过加热,气相中的**物被氧化,将**物C02和H20,通常是用于流量稳定的、低浓度的气体。 因电子半导体焚烧的过程中会产生Si02,而Si02会使催化剂钝化,所以在市场上电子半导体是很少用到接触氧化的方法。